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查看更多资讯 >北方华创模块电源选型需要哪些输入
要减少选型返工，采购方需要核对输入范围、输出路数、电压电流、隔离、效率、纹波、瞬态、时序、保护、温度、封装、散热和质量等级。结论只适用于已说明的材料、环境和测试条件，条件改变后应重新评估。样件阶段先证明什么本题建议以输入作为基线，以隔离作为主要观察量，并用热完成结果复核。测试报告要写明样品、设备、软件、夹具、环境和数据处理方式。小批阶段核对哪些波动核对对象现场或项目条件对应作用输入正常、浪涌和
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企业新闻
真空镀膜面内均匀性变差如何排查
形成可执行结论的关键，是先统一膜厚量测，再检查靶材或蒸发源、工件运动、夹具遮挡、气压、流场、功率、腔体沉积和装载密度。公开资料可确认业务方向，设备配置和验收值仍需按实际工艺书面确认。维护基线从哪里建立本题建议以源作为基线，以装载作为主要观察量，并用腔体完成结果复核。测试报告要写明样品、设备、软件、夹具、环境和数据处理方式。状态监控项目决策维度当前输入确认后输出源位置、消耗和功率检查沉积分布运动
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企业新闻
临时键合设备采购要核对哪些材料与工艺
要减少选型返工，采购方需要把载片材料、临时胶、旋涂厚度、固化、真空、键合温度、总厚度变化、晶圆翘曲和后续减薄条件写入需求。采购前应把现场条件、量测方法和交付范围写清，未披露数据不作推测。先复现现象，不急着改参数临时键合的目标是在减薄和加工过程中支撑易碎晶圆，同时为后续解键合保留窗口。胶材与载片的热机械性质会影响翘曲和残留。从载片排到后续核对对象现场或项目条件对应作用载片玻璃或其他材料与尺寸匹配
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企业新闻
刻蚀终点检测信号不稳定怎么排查
该问题通常跨越设备、工艺和量测，处理时要从膜层厚度和窗口开始，检查光谱或干涉信号、视窗污染、采样参数、图形开口率、背景漂移和算法阈值。公开资料可确认业务方向，设备配置和验收值仍需按实际工艺书面确认。两类或多类方案的共同前提终点信号强弱取决于反应产物、图形面积和检测路径。产品开口率改变后，原配方的阈值可能不再适用，应保留原始信号而非只看终点时间。。公司年报披露的半导体装备包括刻蚀、薄膜沉积、热处
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