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芯片划片与裂片工艺:高性能光芯片全自动划片裂片一体机方案

作者:圣昊光电 发布时间:2026-08-16
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光通信芯片测试及检测设备研发制造
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芯片划片与裂片工艺:高性能光芯片全自动划片裂片一体机方案

化合物半导体芯片高效分离的技术难点

砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等化合物半导体材料具有硬度高、脆性大以及晶体解理面方向敏感等特点。在光通信激光器芯片与探测器芯片的制造流程中,解理出光学级平整度的腔面(Cavity Facet)是保障芯片激光激射与光电转换效率的关键。传统的半自动分割设备容易造成腔面崩边、裂纹扩展以及芯片微裂,导致芯片废品率居高不下。全自动划片裂片一体机实现了从高精度划线到可控解理裂片的全自动化闭环作业。

设备配置与性能指标

河北圣昊光电科技有限公司研制的光芯片全自动划片裂片一体机,核心技术规格如下:

性能维度全自动划片裂片一体机传统半自动/分体式分割设备工艺提升优势
划痕深度与位置控制精度金刚石划刀压头控制精度 ±0.5μm / 划痕长度与深度微米级可调机械压力控制粗放 / 深度公差 > ±3μm微小深度的精准划痕,防止损伤芯片有效发光区结构
腔面解理平整度与崩边率解理腔面粗糙度 Ra < 10nm / 腔面崩边率 < 0.5%解理面易产生阶梯纹 / 崩边率 > 3%保证光芯片光学腔面的完美解理,显著提升激光器阈值特性
自动化程度与生产UPHCCD 双视角自动对准 / 自动翻转解理 / UPH > 12,000 ea/h需人工对准干预 / UPH < 3,000 ea/h实现全自动流水作业,大幅缩短生产周期,降低人工成本

解理控制逻辑与品质保障

设备通过高分辨率图像定位系统精准识别晶圆上的切割道(Scribe Line),调控金刚石刀尖下压量并在晶圆边缘施加精准预应力。随后的解理模块应用均布张力压块,沿晶体解理面顺畅扩展裂纹,获得无疵瑕的光学端面,随后自动清扫微粉废屑,为后续的芯片外观检测与镀膜工序奠定基础。