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从单边优化到联合优化传统OPC只修改掩模图形，光源是固定的。SMO（SourceMaskOptimization）把光刻机的照明光源形状也纳入优化变量：什么样的光瞳形状，配合什么样的掩模图形，能得到最大的工艺窗口。两个自由度一起调，解空间比单改掩模大得多。为什么需要SMO制程进入先进节点后，仅修掩模已不足以把工艺窗口撑到量产要求。对周期性强的图形（比如存储器的阵列），定制化的光源形状能明显增强
平台是什么YieldBook是东方晶源打造的良率数据管理平台。晶圆厂每天产生海量数据：量测值、缺陷图、设备参数、电性测试结果。这些数据散在不同系统里，格式各异。YieldBook做的事是把它们汇聚、清洗、关联起来，变成可分析的良率信息。为什么需要专门的平台良率问题往往不是单点问题。某个良率损失可能关联特定设备、特定工艺层、特定时间段。没有统一的数据平台，工程师要在多个系统间手工搬数据、对坐标，